GB/T 6621-1995 硅抛光片表面平整度测试方法
作者:标准资料网
时间:2024-05-21 04:16:47
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基本信息
标准名称: | 硅抛光片表面平整度测试方法 |
英文名称: | Test methods for surface flatness of silicon polished slices |
中标分类: | 冶金 >> 金属理化性能试验方法 >> 金属物理性能试验方法 |
ICS分类: | |
替代情况: | GB 6621-1986;被GB/T 6621-2009代替 |
发布部门: | 国家技术监督局 |
发布日期: | 1995-04-18 |
实施日期: | 1995-01-02 |
首发日期: | 1986-07-26 |
作废日期: | 2010-06-01 |
主管部门: | 国家标准化管理委员会 |
归口单位: | 全国半导体材料和设备标准化技术委员会 |
起草单位: | 电子部标准化所 |
出版社: | 中国标准出版社 |
出版日期: | 1900-01-01 |
页数: | 平装16开, 页数:11, 字数:21千字 |
适用范围
本标准规定了用相干光的干涉现象测量硅抛光片表面平整度的方法。本标准适用于检测硅抛光片的表面平整度,也适用于检测硅外延片和类镜面状半导体晶片的表面平整度。
前言
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目录
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引用标准
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所属分类: 冶金 金属理化性能试验方法 金属物理性能试验方法
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